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南京原磊納米材料有限公司

國(guó)產(chǎn)高端鍍膜設(shè)備的引領(lǐng)者

國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的革新者

真空鍍膜先進(jìn)制程的實(shí)踐者

核心價(jià)值觀(guān)

專(zhuān)業(yè)、創(chuàng)新、誠(chéng)信、責(zé)任

企業(yè)宗旨

以科技為動(dòng)力、以客戶(hù)為中心

以品質(zhì)為生命、以服務(wù)為根本

國(guó)產(chǎn)崛起，供應(yīng)鏈先行

實(shí)現(xiàn)100%國(guó)產(chǎn)替代的宏偉藍(lán)圖

公司簡(jiǎn)介

南京原磊納米材料有限公司(簡(jiǎn)稱(chēng)“原磊納米”)成立于2018年9月，由具有近20年半導(dǎo)體設(shè)備、工藝研發(fā)經(jīng)驗(yàn)的專(zhuān)業(yè)團(tuán)隊(duì)創(chuàng)建，致力于成為高端半導(dǎo)體鍍膜設(shè)備供應(yīng)商。公司產(chǎn)品主要涵蓋原子層沉積(ALD)設(shè)備和硅鍺外延(EPI)設(shè)備，并為客戶(hù)提供精密加工服務(wù)。全線(xiàn)產(chǎn)品對(duì)標(biāo)海外大廠(chǎng)，領(lǐng)跑?chē)?guó)內(nèi)廠(chǎng)商，先后榮獲科技型中小企業(yè)、高新技術(shù)企業(yè)、南京市培育獨(dú)角獸企業(yè)等榮譽(yù)。

EPI M300 系列

原磊納米自主研發(fā)的低溫選擇性外延平臺(tái)，在制造、能耗和生產(chǎn)效率上取得一些列突破性創(chuàng)新成果，并成為全球第三種加熱燈管設(shè)計(jì)的外延設(shè)備。該設(shè)備可用于8/12英寸邏輯、存儲(chǔ)和外延片等硅基同質(zhì)、異質(zhì)外延生長(zhǎng)。設(shè)備的預(yù)真空腔采用雙層設(shè)計(jì)，兼顧進(jìn)樣和冷卻；工藝腔體配置公司自主研發(fā)的前處理系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)更低襯底傷害下的高質(zhì)量表面處理；傳輸系統(tǒng)在對(duì)晶圓抓取、擺放、升降和溫控等進(jìn)行創(chuàng)新優(yōu)化后，可實(shí)現(xiàn)鍺硅和硅外延工藝產(chǎn)能的大幅提升。該平臺(tái)總共可配置2個(gè)前處理和4個(gè)EPI工藝腔體，能完全滿(mǎn)足主流晶圓廠(chǎng)產(chǎn)能需求。

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 EPI M300 系列

原磊納米自主研發(fā)的低溫選擇性外延平臺(tái)，在制造、能耗和生產(chǎn)效率上取得一些列突破性創(chuàng)新成果，并成為全球第三種加熱燈管設(shè)計(jì)的外延設(shè)備。該設(shè)備可用于8/12英寸邏輯、存儲(chǔ)和外延片等硅基同質(zhì)、異質(zhì)外延生長(zhǎng)。設(shè)備的預(yù)真空腔采用雙層設(shè)計(jì)，兼顧進(jìn)樣和冷卻；工藝腔體配置公司自主研發(fā)的前處理系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)更低襯底傷害下的高質(zhì)量表面處理；傳輸系統(tǒng)在對(duì)晶圓抓取、擺放、升降和溫控等進(jìn)行創(chuàng)新優(yōu)化后，可實(shí)現(xiàn)鍺硅和硅外延工藝產(chǎn)能的大幅提升。該平臺(tái)總共可配置2個(gè)前處理和4個(gè)EPI工藝腔體，能完全滿(mǎn)足主流晶圓廠(chǎng)產(chǎn)能需求。

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產(chǎn)品展示

PRODUCTS

公司主營(yíng)業(yè)務(wù)：原子層沉積（ALD）和硅鍺外延（EPI）機(jī)臺(tái)研發(fā)銷(xiāo)售、設(shè)備及工藝全解決方案、設(shè)備定制化服務(wù)以及材料光電學(xué)表征服務(wù)。憑借專(zhuān)業(yè)團(tuán)隊(duì)和技術(shù)創(chuàng)新，致力于為客戶(hù)提供全方位、一站式的解決方案，助力客戶(hù)實(shí)現(xiàn)高效生產(chǎn)和質(zhì)量提升。