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Compounds ALD Flura PC-10
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Compounds ALD Flura PC-10

原磊納米自主開發(fā)的團(tuán)簇式ALD設(shè)備,應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體等領(lǐng)域量產(chǎn)客戶。集成8~10個(gè)工藝腔體自主研發(fā)的VTM傳輸系統(tǒng),配置2個(gè)冷卻站,分別同時(shí)冷卻5片晶圓配置2 loadlocks(25pcs/loadlock),自帶內(nèi)部自清潔功能,保障晶圓潔凈工藝腔體本底壓力低,極大控制氮化物膜層的氧含量獨(dú)特工藝腔體設(shè)計(jì),保證良好的溫度場和流場特有等離子體處理技術(shù),可有效減少高能離子對局部膜層的損傷維護(hù)便利,自帶起重系統(tǒng),極大減少系統(tǒng)組裝、檢修、維護(hù)時(shí)間。
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產(chǎn)品描述

技術(shù)參數(shù)                

晶圓尺寸:6/8英寸                

裝片能力:1片/腔,配置8~10工藝腔體                

適用工藝:ALN、Al2O3、TiN等                

應(yīng)用領(lǐng)域:化合物半導(dǎo)體、MEMS等

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